TARGET TITANA

Čistost
Čistost je eden glavnih kazalcev uspešnosti cilja, ker čistost cilja močno vpliva na uspešnost filma ., vendar v praktičnih aplikacijah zahteve za čistost za cilj niso enake {{1}, na primer s hitrim razvojem mikroelektronske industrije, ki je bila razvita od 12 ", ki je bila Wriberalska širina", ki je bila Wriberalce Wist ", ki je bila Wriberalc Breaced, ki je bil Wriberalcin iz" do 12 ", ki se je Wrisecon širino od 12", ki se je Wrisecon Chip razvil od ", ki se je Wrisecon širino od" do 12 ", ki se je Wrisecon širino razvilo od", ki se je Wrisecon širino od "do 12", ki se je Wrisecon širino razvilo od ", ki se je Wriberalce Wise, 8" Od 0 . 5um do 0 . 25um, 0,18um ali celo 0,13um, in prejšnje 99.995% ciljne čistosti lahko ustrezajo postopkom 0,35UMIC.
Vsebina nečistoče
Impurities in target solids and oxygen and water vapor in pores are the main pollution sources of deposited films. Targets for different purposes have different requirements for different impurity content. For example, pure aluminum and aluminum alloy targets used in the semiconductor industry have special requirements for alkali metal content and radioactive element content.
Gostota
Da bi zmanjšali poroznost v ciljni trdni snovi in ​​izboljšali zmogljivost razpršenega filma, je tarča običajno imeti visoko gostoto . gostoto cilja ne vpliva samo na hitrost brizganja, ampak tudi vpliva Gostota in trdnost cilja omogoča, da tarča lažje prenese toplotno napetost med brizganjem . gostota je tudi eden od ključnih indeksov uspešnosti ciljnega gradiva .